不過很快吳德義就釋然了，自己現在工作的智雲科技可是一年數百億美元營收，毛利潤都有一百多億美元的跨國科技巨頭，其利益綁定以及自身的現金流是極其恐怖的，和尋常企業那是兩碼事。

吳德義不知道最後公司會怎麼解決這些專利問題，但是既然公司說了不用擔心，他也就不管那麼多了，繼續搞就是了。

當即吳德義收拾了心情，繼續給徐申學解釋道：“利用浸潤式光刻機，則是可以向下突破四十五納米工藝，做到四十五納米乃至二十八納米工藝，我們公司的下一步目標就是四十五納米，然後是二十八納米，逼近DUV浸潤式光刻機的物理極限！”

徐申學道：“二十八納米就是極限了？我聽說不是正在搞比節點更低的工藝嗎？聽說台積電那邊的二十八納米節點已經差不多可以用了，興許明年就能用上了！”

“同時還聽說他們打算把工藝節點進一步往前推移到二十納米的節點呢！”

吳德義道：“其實二十八納米已經逼近這種DUV浸潤式光刻機的物理極限了，雖然特定情況下單次曝光可以達到二十二納米左右的程度，但是沒有什麼實際價值。”

“DUV浸潤式光刻機的單次曝光，其成熟工藝基本就限定在二十八納米了。”

這個時候，一旁的丁成軍也道：“這也是為什麼193納米波長的DUV浸潤式光刻機，又被稱之為28納米光刻機的主要緣故……就是這種光刻機的理論物理極限就是單次曝光二十八納米了！”

“據我所知，台積電，英特爾等公司嘗試著讓DUV浸潤式光刻機，在逼近了193波長的物理極限後，通過改變芯片設計，然後做出來等效工藝，但是柵極長度並不會有太大的改變了。”

吳德義這個時候也道：“此外還可以采用多重曝光工藝。”

“如果利用多重曝光技術，193納米分辨率的浸潤式光刻機，理論上甚至能夠做到等效十多納米乃至更低等效工藝的芯片……隻不過工藝過於複雜，目前還沒有公司在這一技術領域獲得過成功。”

“實際上，使用多重曝光技術的話，遠不如直接使用光源分辨率更小的EUV光刻機來的簡單直接，成本還低。”

徐申學聽了後，回憶了一番自己所記得的一些芯片方麵的信息，但是能記起來的也不多……也就是什麼十四納米，七納米，五納米這些。

他並不知道，二十八納米以及往上的工藝，計算芯片工藝的時候采用的是柵極長度。

但是到了二十八納米之下，芯片工藝計算的方式是‘半間距’，算出來的工藝是等效工藝，比如十四納米工藝……這其實是等效工藝！

而且不同的芯片代工廠因為工藝的差異或者營銷的需求，往往會計算等效工藝的公式還不一樣，很容易就讓人迷惑了。

比如台積電七納米和英特爾10納米……這倆玩意雖然工藝不一樣，稱呼不一樣，但實際上性能都差不多，可以簡單粗暴的理解為同一技術水準的東西。

但是徐申學卻是知道：台積電等效七納米或英特爾等效十納米工藝的話，其實已經可以滿足絕大部分芯片的需求了……

隻有最頂級的電腦CPU，顯卡，手機SOC以及了未來的AI芯片，才會需要更低的等效五納米，乃至等效三納米，兩納米之類的工藝……而這些工藝就需要更先進的EUV光刻機了。

這東西人家國外也剛弄出來，一時半會的也買不到……更彆說這玩意大概率因為技術封鎖難以購買。

所以徐申學對此不抱有什麼希望，先購買一大堆DUV浸潤式光刻機再說……後續也儘可能的采購更先進的DUV浸潤式光刻機，爭取被製裁後，也能夠獨立搞出來等效七納米左右的芯片。

有了這玩意後，那麼後續可供騰挪轉移的戰略空間就比較大了，不至於讓對方稍微卡個芯片代工就會翹辮子。

隻要封鎖不是太嚴厲，那麼基本問題都不大，至少可以滿足未來十多年的需求。

但是如果封鎖的太嚴重，連這些光刻機都不讓用，等到甚至連浸潤式光刻機也采購不到，甚至連其他設備以及材料，比如光刻膠這些都被製裁了。

那麼就需要備份計劃裡的另外一方案：自主研發半導體基礎設備以及材料！

半導體備份計劃裡，徐申學是兩條腿走路！

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數天後，徐申學再一次低調的出現在了深城的一家外資背景的公司裡。