第709章:中國光刻機的希望(1 / 1)

“前麵就是asml的一些大佬了。”

“這邊是德州儀器的。”

“還有飛利浦的。”

“至於左邊的……你認得,台積電的張總。”

一進研討會現場,張如京便向陳宇紛紛介紹著一眾芯片領域的大佬。

此時,大概也是看到張如京,台積電張中謀卻是緩緩走了過來。

“陳宇小友,彆來無恙呀。”

張中謀首先向陳宇打起了招呼,然後又看向了張如京:“如京,你也來了。”

“張總,這樣的全球性大會,我怎麼能不來。”

張如京雖然被張中謀坑了一把,但他為人內斂,一向善於藏鋒。

他知道,就算是與張中謀撕破臉,這對於他也沒有什麼好處。

“嗬嗬,我就知道你會來。”

張中謀笑道:“如京,你可是找了一位好的合作者,你們的天問芯片非常棒。不過,我看中心現在的生產能力,可能有一些跟不上市場的需求度吧。”

“這個就不容張總擔心了。”

隻是張如京雖然這樣回答,便張中謀卻看向了陳宇:“我覺得陳宇小友應該有自己的判斷。”

很顯然。

張如京拒不拒絕並不重要。

重要的是陳宇的態度。

中心國際隻是一家代工廠,他是給彆人代工芯片的。

也就是說,生產出來的芯片是環宇科技的。

環宇科技給中心國際下多少單,中心國際才能生產多少芯片。

如果中心國際產能不夠,環宇科技完全可能將一部分訂單下給台積電。

“張老先生說的是,我會考慮的。”

陳宇沒有拒絕,同樣也沒有答應。

但這般回答,張中謀卻是無比的滿意。

“陳宇,你不要被張中謀給坑了。”

待張中謀離開,張如京有些不悅的說道。

“張總,放心,我們才是同盟。”

陳宇用眼神示意張如京放寬心:“不過,有的時候,我們也不是不能坑他一把。”

被張中謀算計過,陳宇可一直不爽。

有仇不報,那不是陳宇的性格。

“嗬,陳宇,你還挺記仇的。”

“我又不是聖人,肯定記仇。”

陳宇說道:“上次你被坑了,其實也因我而起。說起來,有都有些不好意思。”

“過去的事情不要再提,這完全不怪你。要怪,就怪我們實力太弱。”

這一說,兩人都是沉默。

兩人參加這一次全球性的芯片開發會議,又如何不想振興國內芯片產業呢。

隻是兩人都知道,雖然他們有著無比的雄心,但前路卻是無比的坎坷。

“好了,彆說這些了,先聽他們說些什麼。”

指著前方,張如京說道:“這位是飛利浦的首席技術官,他們的芯片技術很厲害。當年的asml其實就是從飛利浦分出來的。”

陳宇點了點頭,用心的聽著。

但可惜,對於技術陳宇並不是很在行。

再加上陳宇英語雖然也還可以,但涉及到這麼專業的術語,陳宇聽得頭都大。

果然,當初就知道來了與沒來一樣。

就算是來了,同樣也聽不懂。

隻是一邊的張如京卻聽得不時拍手稱好,看到陳宇有一些無所事事,便問道:“感覺如何?”

“沒感覺。”

“怎麼沒感覺?”

“聽不懂。”

“這也是,技術可能太複雜了,你畢竟不是專業搞芯片的。”

“主要是我聽不懂他英語說的是什麼。”

“噗……”

張如京目瞪口呆。

但這也是。

像這麼專業的知識,彆說是英語一般的,哪怕是英語很牛逼的也感覺是聽天書。

不過,既然來了,雖然有些聽不懂,但陳宇也沒有提前離開。

“這是日本佳能的技術大佬?”

隨著一個一個技術大拿紛紛演講結束,這時,陳宇卻看到講台上走上了一位黃皮膚黑眼睛的亞洲人。

“不是,他是一位越南籍華人,他叫林本艱,祖上好像也是客家人,台積電的技術大拿,在光刻機這一塊很有研究。”

“噢。”

陳宇點頭。

他這一次來這裡聽研討會的目的,不就是為了光刻機嗎?

原本他以為,隻要涉及到光刻機的,要麼是荷蘭,要麼是德國,要麼是日本。

沒想到,在光刻機領域竟然還有一位華人大拿。

這一次,他倒要認真的聽了。

但可惜。

雖然林本艱會說中文,但在這樣的全球性研討會上,演講用的還是英語。

與此前一樣,陳宇也感覺在聽天書。

聽了好一會,陳宇隻聽到乾式,濕式什麼的。

“張總,那個林本艱說的乾式和濕式是什麼意思?”

“說的是生產光刻機的一種技術工藝,目前我們大部分普遍用的是乾式光刻機生產工藝。也就是用空氣做為鏡頭與晶圓間的介質,讓光罩上的圖形在晶圓上成象。不過,這個林本艱覺得,還可以用一種濕式工藝。”

“什麼是濕式?”

“他說的這個濕式名字叫做浸潤式,與濕式差不多。但用的介質卻不一樣,我們一般現在用的是空氣,而林本艱提成了用水做為浸潤式的介質。”

“水?”

聽到水這個詞,陳宇陳宇有些激動。

記得前世,其實在開始之初,荷蘭aslm與德國,與日本幾大光刻機公司實力都差不多。

為什麼後來aslm卻是一統天下,完全與這一些光刻機公司選擇的路線有關。

當時日本,德國,包括美國這一些光刻機公司路線選擇出錯。

而aslm卻是花重金開辟了另一條光刻機生產工藝。

這個工藝,就涉及到水,也就是林本艱現在提到的浸潤式。

“您覺得他的這個工藝有沒有前途?”

陳宇不是很懂技術,但卻知道,這是決定未來光刻機命運的時刻。

在前世2008年之後,全球90%以上生產出來的芯片,用的都是林本艱所提出來的濕式光刻工藝。並且,也正因為林本艱提出了這個濕式工藝,這才將芯片從190納米,一路做到了130納米,90納米,65納米,40納米,28納米,20納米,16納米,10納米,7納米,和5納米。甚至,連最為尖端的3納米,采用的都是林本艱的濕式光刻技術。

“這個,說不準,理論上有可能,但裡麵還存在著一係列要解決的問題。比如,水會不會產生汽泡,水會不會汙染設備,要怎麼做防水,水遇熱會膨脹,折射率會改變,這又怎麼解決……”

張如京向陳宇述說著這一個濕式光刻工藝所麵對的問題。

隻是,這個時候,陳宇的眼睛已經盯緊了林本艱。

他知道。

未來若乾年之後,這一切的問題都不會成為問題。

如果抓住這個林本艱,那麼,中國光刻機就有希望了。

举报本章错误( 无需登录 )